苹果脸上的新专利改革：成分较小，成本降低，

5月29日新闻，技术媒体Pathellypapple昨天（5月28日）发布了一篇博客文章，报道苹果已批准了一项新的专利，涉及下一代面部ID技术，从差异不同的光学元素（DOE）转变为更高级的“ Metalability Optical Elemical Elements”（MOE）。它引用了一篇博客文章，并介绍了现有的Apple ID脸取决于各种光学元素（DOE），以生成用于目标区域3D映射的点照明模式。传统的结构光投影仪通常需要许多光学组件，包括DOE和构造镜头，以分割横梁和项目等图案。尽管这种类型的投影模块足够小，可以嵌入智能手机中，但仍然需要进一步发展。该专利提出了用于跨表面光学元件（MOE）的设计方案。在单个平坦元素中，组合的梁段和收集操作不仅可以减少投影M的体积Odule，降低生产成本，同时简化了组装过程并减少制造错误的影响。上图的图像：新的patenthapple专利还表明，MUE技术可以同时调整投影模块的光轴的倾斜角度，以更好地探索相机视图（FOV）。该设计可确保点图案涵盖相机视图的磁场并提高3D映射的准确性。此外，该设备可以通过抑制作用来交替使洪水点的照明和洪水的照明使场景的不同情况。 【来源：这在家】